CMOSイメージセンサー製造における半導体ウェーハ工程の開発エンジニア◆ウェーハプロセス開発Litho、DRY、CMP、CVD、PVD、WET、Ion Impla工程等の安定性、コスト、生産性を考慮した量産技術開発、装置立上げ、条件出し、プロセス課題への対応◇ウェーハデバイス開発新タイプのCMOSイメージセンサー開発、歩留・特性改善、試作開発・評価、量産展開、製品要求仕様を満たす生産プロセス条件の確立◆ウェーハ設備技術Litho・WET・DRY・メッキ・CMP工程等の開発、導入、生産性・歩留改善、生産Capa構築(設備導入・立上げ)、コストダウン、品質改善◇製品技術CMOSイメージセンサーの製品化PL、測定仕様策定、製品・信頼性評価、妥当性検証◆MEMS製品技術センサー・スイッチ・アクチュエーター等のMEMSモジュールの製品技術(設計・評価・テスト仕様取り纏め)顧客仕様に基づいたプロセス、デバイスを社内保有設備で構築するプロセスインテグレーション◇品質保証イメージセンサー製品における顧客工程内の不具合解析、不具合対策の内部展開とフィードバック、顧客対応(海外顧客含む)◆ファシリティ水処理・ガス・電気・薬品・空調・生産付帯設備など、半導体製造のためのユーティリティの維持管理、スペック監視