半導体製造装置(エッチング装置)のプロセス開発半導体製造装置の性能や生産性を最大限に引き出すプロセス開発の提案、お客さまと新規のプロセスを実現するための開発を主に行います。
エッチング装置はシリコンウェーハ上にプラズマの原理を利用し、非常に微細な回路線幅を加工します。
お客様のニーズに応えるべく、そのウェーハに反応するプラズマを発生させるプロセスガスの種類や装置内の電圧・温度などを調整し、数百通りから最適な組み合わせを導き出すために試行錯誤を繰り返します。
その上で検証と評価を繰り返し、従来にない最適な組み合わせを開発いただくことを期待します。
また、プロセスエンジニアとしての専門知識と同時にハードやソフトウェアに対する広い知識も必要とされます。
お客さまの拠点に直接出向くことも多く、コミュニケーション能力も求められる、製品開発の最前線といえる仕事です。